电子、半导体行业制取超纯水的工艺流程

丁忠运

随着经济的迅速发展，水污染日益严重。水质下降，给电子行业的生产带来了很大的困扰，电子行业生产用水很难达到标准。电子行业一般研制的产品属于比较精密的设备，所以在生产过程中对水质的要求极高，如果水质不符合生产标准，直接影响产品质量，阻碍了电子行业的发展。所以电子行业超纯水的制取非常的重要。

 

基本工艺流程:
原水→UF给水泵→袋式过滤器→超滤装置→超滤水箱→一级RO给水泵→保安过滤器→一级RO高压泵→一级反渗透设备→一级RO水箱→二级RO高压泵→二级反渗透设备→二级RO水箱→CEDI增压泵→TOC分解器→膜脱气装置→CEDI电去离子模块→氮封纯水箱→纯水泵→TOC分解器→膜脱气装置→一级抛光混床→二级抛光混床→微过滤器→超纯水增压泵→微过滤器→用水点。

工艺说明：
超滤可降低原水的SDI值、浊度、TOC值，为RO提供稳定、优良的进水；二级反渗透能够有效去除水中的溶解盐类、胶体、微生物、有机物等（去除率高达97%-98%），可最大程度确保产水水质，延长CEDI的使用寿命；TOC分解器是利用紫外线将水中的碳水化合物打断，在足够的照射剂量照射下，将绝大部分的有机物分解成H2O和CO2；膜脱气装置可去除二氧化碳及氧气；CEDI系统通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂（Tulsimer T-42、A-23）对水中离子交换作用，在电场的作用下实现水中离子定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生；二级抛光混床（Tulsimer MB-115 18M、MB-106 18.25M）对纯水进一步精制，保证水质符合电子行业水质要求。


混床抛光树脂介绍：
Tulsimer MB-106UP为高阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子Tulsimer T-46Li 及核子级强碱型阴离子 Tulsimer A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用，具有高的交换容量及优越的物理特性。
适合用于电子产业 ，生产半导体及映像管产业，实验室，激光，高精仪器，医用行业等需要超纯水的行业，以及核电厂等使用。在全球我们有数十家核电厂使用Tulsimer抛光树脂。

来源：https://blog.csdn.net/dssz151********/article/details/124715253
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